《我国科学报》记者日前从华中科技大学得悉，该校刘世元教授团队近来成功研发出全国首款彻底自主可控的OPC软件，未来将助力我国芯片制作业开展。
OPC软件，即光学附近校对软件，是芯片规划东西EDA的一种，没有它，即便用了光刻机，也造不出芯片，此前，全球OPC东西软件商场由Synopsys、Mentor、ASML-Brion等三家美国公司独占。
刘世元介绍，光刻是芯片制作中最为要害的一种工艺，经过光刻成像体系，将规划好的图形转移到硅片上。跟着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会发生畸变。在90nm乃至180nm以下芯片的光刻制作前，都一定要选用OPC的算法软件来优化。没有OPC，一切IC制作厂商将失掉将芯片规划转化为芯片产品的才能。
华中科大研发团队坚持最底层的代码一行行敲、最根底的公式一个个算，总算打造出自主可控的OPC软件算法。现在，相关企业正在对该软件做集成与测验，并到芯片制作商进行验证。
据悉，刘世元早年师从我国闻名机械学家杨叔子院士。2002年，从英国访学归国后不久，刘世元曾作为最早的几名技术骨干之一，承当国家863严重专项“100nm光刻机”研发使命，为整体组成员、操控学科负责人。
